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Traitements thermiques

Les applications de traitement thermique nécessitent des matériaux d’étanchéité qui présentent de bonnes propriétés mécaniques, telles qu’une faible déformation rémanente après compression ou relaxation des contraintes de compression, en plus d’une résistance chimique très spécifique. Les procédés tels que l’Atomic Layer Deposition (ALD), le dépôt chimique en phase vapeur à pression réduite (LPCVD), le dépôt chimique en phase vapeur à pression sub-atmosphérique (SACVD), le recuit et l’oxydation nécessitent des matériaux d’étanchéité capables de résister à des hautes températures sur le long terme. Ces procédés comprennent souvent l’utilisation d’oxygène, d’ozone ou d’une combinaison d’ozone et de rayonnements UV à haute énergie, tels que ceux appliqués en ingénierie de déformation des résistances, FCVD et traitement « low k ».

Un choix approprié de produits recommandés par PPE conduit à :-

  • Une optimisation des coûts en fonction de l’application
  • Une faible déformation rémanente après compression
  • Un allongement de la durée de vie dans des régimes de durcissement UV agressifs
  • De faibles taux d’érosion
  • De faibles niveaux de traces métalliques lorsque cela est critique
  • Un faible taux de libération de particules lorsque cela est critique
  • Une minimisation de l’impact sur le rendement de l’appareil et sur le rendement électrique
  • Une réduction des coûts des consommables

Le tableau ci-dessous présente les catégories de matériaux élastomères de PPE recommandés et compatibles.Les catégories principales sont axées sur les emplacements critiques du système ou de l’outil.Pour avoir de plus amples conseils sur les choix de joints adaptés, veuillez contacter votre commercial le plus proche.

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Procédé/ApplicationPlage de
température
Milieu du procédéMatériaux
principaux
Matériaux
compatibles
Commentaires
CVD métallique
ALD
LPCVD
25 - 200 °C
Précurseurs organiques, WF6, TiCl4, SiH4, SiHCl3, SiH2Cl2, SiCl4, Ar, N2, H2, NH3, HF, HCl, F2, Cl2, CIF3, NF3, H2O vapeur, O2, O3 G75B, G75H, K2CDG67G, G76W, K13X, V75PG75B recommandé pour les applications d’étanchéité à très haute température.


SACVD25 - 200 °C
TEP, TEBO, TEOS, O3, O2, N2, NF3G75B, G75H, G65HP G67G, G70H, G76W
Diffusion de l’oxydation100 - 300 °C
N2, O2, H2O, POCl3, BBr3, PH3, B2H6, HCl, Cl2G75B, G75H, K2CDG65HP, G70H, G76W, V75P
Procédé de recuit rapide et
oxydation thermique
100 - 300 °C
Rayonnements IR, O2, VapeurG75B, K13X, G75HG76G, G67P, G74P, G75M
Durcissement UV100 - 300 °C
N2, Ar, O2, O3G67G, G70HY75G, G76W, G75HG67G recommandé pour tous les endroits critiques
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